MX8R微分干涉顯微鏡
全新設計的大金像機架，可承載8英寸超大工作平臺，堅實穩重，滿足專業市場需求。
采用研究級顯微鏡RX系列的新照明系統和光學系統，照明均勻，成像清晰。
MX8R采用明暗場半復消金相物鏡，采用多種高級晶體光學材料制成，完美校正各類色相差，超大數值孔徑設計，在全視場范圍內提供高清晰度、高對比度的顯微圖像。在明場、暗場、偏光、微分干涉相襯、熒光觀察時，展現出優異的性能。
技術參數：
| 光學系統 | 無限遠色差光學系統 |
| 觀察方式 | 明場/暗場/偏光/DIC |
| 觀察筒 | 30°傾斜，正像，無限遠鉸鏈三通觀察筒，曈距調節：50-76mm,分光比：100:0或0:100 |
| 30°傾斜，倒像，無限遠鉸鏈三通觀察頭，曈距調節范圍50-76mm,三檔式分光比：0:100或20:80或100:0 | |
| 目鏡 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X/25mm,視度可調，可帶單刻度十字分劃板 |
| 高眼點大視野平場目鏡PL10X/26.5mm,視度可調，可帶單刻度十字分劃板 | |
| 物鏡 | 明暗場半復消金相物鏡（5X、10X、20X、50X 、 100X) |
| 無限遠長工作距平場明暗場消色差金相物鏡（5X、10X、20X、50X 、 100X) | |
| 轉換器 | 明暗場五孔轉換器，帶DIC插槽 |
| 明暗場、明場六孔轉換器，帶DIC插槽 | |
| 明場七孔轉換器，帶DIC插槽 | |
| 調焦機構 | 反射式機架，前置低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程33mm,微調精度0.001mm ；帶有防止下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置；內置100-240V寬電壓系統，帶光亮度設定暗扭與復位按扭 |
| 明暗場反射照明器，帶可變孔徑光闌，視場光闌，中心均可調；帶明暗場照明切換裝置；帶濾色片插槽與偏光裝置插槽 | |
| 載物臺 | 8英寸三層機械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調節；平臺面積525mmx330mm,移動范圍： 210mmx210mm ；帶離合器手柄，可用于全行程范圍內快速移動；玻璃載物臺板，（反射用） |
| 反射照明系統 | 明暗場反射照明器，帶可變孔徑光闌，視場光闌，中心均可調；帶明暗場照明切換裝置；帶濾色片插槽與偏光裝置插槽 |
| 攝影攝像 | 0.5X/0.65X/1X攝像接筒，C型接口，可調焦 |
| 其他 | 起偏鏡插板，固定式檢偏鏡插板，360°旋轉式檢偏鏡插板；DIC微分干涉組件；反射用干涉濾色片組；高精度測微尺 |
明場觀察（透射）
5W大功率LED，配以N.A.0.5聚光鏡，可以透照明下，觀察LCD彩色液晶顯示屏，器件框架邊緣等。
透射照明與反射照明為獨立控制，即可同時亮，也可單獨亮。
明場觀察（反射）
遠心坷拉反射照明系統，配以全新設計的無限遠平場消色差長工作距金相物鏡，從低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質顯微圖像。
簡易偏光觀察
將起偏器鏡及檢偏鏡插板插入照明的指定位置，即可進行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和360°旋轉式兩種。
暗場觀察
將暗場照明拉桿拉到指定位置，即可使用暗場功能，可以觀察物體表面的各種劃痕、雜質點及其他細微缺陷，暗場功能只限于MX8R機型。
DIC微分干涉觀察
在正交偏光的基礎上，插入DIC棱鏡，即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術，可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計，使得整個視場的干涉一致，微分干涉效果非常出色，高倍物鏡DIC效果也較好。
產品尺寸圖：
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